Gas control method and related uses
WO2021055236
Art A1
25. März 2021
Anmelder: CYMER, LLC 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021055236
- Aktenzeichen
- EP20780494
- Anmeldetag
- 10. September 2020
- Veröffentlichung
- 25. März 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01S3/036H01S3/225
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- CYMER, LLC
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Cymer
Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.
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