Gas control method and related uses

WO2021055236 Art A1 25. März 2021

Anmelder: CYMER, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2021055236
Aktenzeichen
EP20780494
Anmeldetag
10. September 2020
Veröffentlichung
25. März 2021
Rechtsraum
WO
IPC
H01S3/036H01S3/225
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
CYMER, LLC
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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