Plasma immersion methods for ion implantation
WO2021055606
Art A1
25. März 2021
Anmelder: ENTEGRIS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021055606
- Aktenzeichen
- EP20865139
- Anmeldetag
- 17. September 2020
- Veröffentlichung
- 25. März 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/265H01J37/317
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ENTEGRIS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Entegris
US-amerikanischer Hersteller von Spezialmaterialien und Filtrationslösungen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Massachusetts.
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