Lithographic apparatus, metrology system, and illumination systems with structured illumination

WO2021058313 Art A1 1. April 2021

Anmelder: ASML HOLDING N.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021058313
Aktenzeichen: EP20774917
Anmeldetag: 14. September 2020
Veröffentlichung: 1. April 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01N21/956G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML HOLDING N.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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