Pre-wetting liquid, resist film forming method, pattern forming method, and kit

WO2021059862 Art A1 1. April 2021

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021059862
Aktenzeichen: EP20870104
Anmeldetag: 28. August 2020
Veröffentlichung: 1. April 2021
Rechtsraum: WO
IPC: B05C9/10B05D3/10B05D7/24G03F7/038G03F7/039G03F7/16G03F7/20H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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