Mask blank, phase shift mask, and method for producing semiconductor device

WO2021059890 Art A1 1. April 2021

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021059890
Aktenzeichen: EP20869206
Anmeldetag: 1. September 2020
Veröffentlichung: 1. April 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/32G03F1/34C23C14/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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