Low Temperature Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Process Including Preheated Showerhead

WO2021061461 Art A1 1. April 2021

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021061461
Aktenzeichen: EP20869268
Anmeldetag: 16. September 2020
Veröffentlichung: 1. April 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/507C23C16/509C23C16/455C23C16/458

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von