Lithography improvement based on defect probability distributions and critical dimension variations

WO2021062040 Art A1 1. April 2021

Anmelder: SYNOPSYS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021062040
Aktenzeichen: EP20796960
Anmeldetag: 24. September 2020
Veröffentlichung: 1. April 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F1/70

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SYNOPSYS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Synopsys

Synopsys ist ein US-amerikanischer Anbieter von Software für den Chip- und Systementwurf (EDA) mit Sitz in Kalifornien. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Software und Datenverarbeitung sowie Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt durch Optik und Elektronik für Entwurfswerkzeuge. Anmeldungen reichen von 2000 bis in die Gegenwart.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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