Radiation-sensitive resin composition and method for forming resist pattern using same

WO2021065350 Art A1 8. April 2021

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021065350
Aktenzeichen: EP20872395
Anmeldetag: 4. September 2020
Veröffentlichung: 8. April 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C07C65/03C07C309/17C07C309/19C07D317/70C07D333/54C07D333/56C07D409/04G03F7/004G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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