Etching composition and method for selectively removing silicon nitride during manufacture of a semiconductor device

WO2021067150 Art A1 8. April 2021

Anmelder: VERSUM MATERIALS US, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2021067150
Aktenzeichen
EP20872612
Anmeldetag
28. September 2020
Veröffentlichung
8. April 2021
Rechtsraum
WO
IPC
C09K13/04C07F7/08H01L21/311H01L21/02
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
VERSUM MATERIALS US, LLC
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Versum Materials US

Versum Materials US, LLC war ein US-amerikanischer Hersteller von Spezialchemikalien und -gasen für die Halbleiterfertigung, der 2019 von Merck KGaA übernommen wurde. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Oberflächentechnik, ergänzt um Farben, Klebstoffe und organische Chemie. Anmeldungen erfolgten zwischen 2002 und 2025.

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