Frequency domain enhancement of low-snr flat residue/stain defects for effective detection

WO2021067518 Art A1 8. April 2021

Anmelder: KLA CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021067518
Aktenzeichen: EP20870840
Anmeldetag: 1. Oktober 2020
Veröffentlichung: 8. April 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/95G01N21/88G01N21/892H01L21/66G06T7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: KLA CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 KLA Corporation

US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.

1.908 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Software & Datenverarbeitung

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