Gasauslassorgan eines Cvd-Reaktors

WO2021069598 Art A2 15. April 2021

Anmelder: AIXTRON SE 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021069598
Aktenzeichen: EP20797041
Anmeldetag: 8. Oktober 2020
Veröffentlichung: 15. April 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/44C30B25/12C30B25/14

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: AIXTRON SE
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von