Thin film damage detection function and charged particle beam device

WO2021070340 Art A1 15. April 2021

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION, NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021070340
Aktenzeichen: EP19948285
Anmeldetag: 10. Oktober 2019
Veröffentlichung: 15. April 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/20H01J37/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

147 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von