Negative-working photosensitive resin composition, photosensitive resist film, pattern formation method, cured film, cured film production method, and rolled body

WO2021070764 Art A1 15. April 2021

Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021070764
Aktenzeichen: EP20874964
Anmeldetag: 5. Oktober 2020
Veröffentlichung: 15. April 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C08G59/68G03F7/004G03F7/038G03F7/20G03F7/32G03F7/38H05K3/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

927 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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