System and method for reducing printable defects on extreme ultraviolet pattern masks
WO2021071790
Art A1
15. April 2021
Anmelder: KLA CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021071790
- Aktenzeichen
- EP20874033
- Anmeldetag
- 6. Oktober 2020
- Veröffentlichung
- 15. April 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F1/72G03F1/84G03F1/22
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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