Positive tone development of cvd euv resist films

WO2021072042 Art A1 15. April 2021

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021072042
Aktenzeichen: EP20873485
Anmeldetag: 8. Oktober 2020
Veröffentlichung: 15. April 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/16G03F7/20G03F7/004G03F7/32C23C16/56

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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