Defect inspection method and defect inspection device
WO2021074944
Art A1
22. April 2021
Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021074944
- Aktenzeichen
- EP19949493
- Anmeldetag
- 15. Oktober 2019
- Veröffentlichung
- 22. April 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01N21/956
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi High-Tech Corporation
Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.
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