Photosensitive resin film, resist pattern forming method, and wiring pattern forming method
WO2021075005
Art A1
22. April 2021
Anmelder: Showa Denko Materials Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021075005
- Aktenzeichen
- EP19949500
- Anmeldetag
- 16. Oktober 2019
- Veröffentlichung
- 22. April 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/40G03F7/004G03F7/027G03F7/42
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Showa Denko Materials Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Showa Denko Materials
Showa Denko Materials, vormals Hitachi Chemical, ist ein japanischer Hersteller elektronischer und chemischer Materialien und gehört inzwischen zum Resonac-Konzern. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Kunststoff- und Polymertechnik, ergänzt durch Klebstoffe und Fertigungstechnik. Anmeldungen stammen aus dem Zeitraum 2010 bis 2022.
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