Method of determining aberrations in images obtained by a charged particle beam tool, method of determining a setting of a charged particle beam tool, and charged particle beam tool

WO2021078445 Art A1 29. April 2021

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021078445
Aktenzeichen: EP20771312
Anmeldetag: 16. September 2020
Veröffentlichung: 29. April 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/153H01J37/22H01J37/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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