Membrane cleaning apparatus

WO2021078534 Art A1 29. April 2021

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021078534
Aktenzeichen: EP20789581
Anmeldetag: 9. Oktober 2020
Veröffentlichung: 29. April 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/62G03F1/82G03F7/20B08B7/02

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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