Extreme ultraviolet mask blank defect reduction methods

WO2021081291 Art A1 29. April 2021

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021081291
Aktenzeichen: EP20879545
Anmeldetag: 23. Oktober 2020
Veröffentlichung: 29. April 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/56C23C14/34C23C14/14C23C14/06C23C14/50C23C14/35G03F1/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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