Phase measurement device for laser interference photolithography system, and method for using same

WO2021083045 Art A1 6. Mai 2021

Anmelder: TSINGHUA UNIVERSITY, BEIJING U-PRECISION TECH CO., LTD. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021083045
Aktenzeichen: EP20881362
Anmeldetag: 23. Oktober 2020
Veröffentlichung: 6. Mai 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B27/28

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: TSINGHUA UNIVERSITY
BEIJING U-PRECISION TECH CO., LTD.
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Tsinghua University

Chinesische Universität mit Sitz in Peking, eine der führenden Forschungshochschulen des Landes. Aktiv in Ingenieurwissenschaften, Informatik, Materialwissenschaften und Naturwissenschaften sowie in zahlreichen technischen Anwendungsfeldern.

3.287 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von