Laser interference photolithography system

WO2021083046 Art A1 6. Mai 2021

Anmelder: TSINGHUA UNIVERSITY, BEIJING U-PRECISION TECH CO., LTD. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021083046
Aktenzeichen: EP20883501
Anmeldetag: 23. Oktober 2020
Veröffentlichung: 6. Mai 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TSINGHUA UNIVERSITY
BEIJING U-PRECISION TECH CO., LTD.
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Tsinghua University

Chinesische Universität mit Sitz in Peking, eine der führenden Forschungshochschulen des Landes. Aktiv in Ingenieurwissenschaften, Informatik, Materialwissenschaften und Naturwissenschaften sowie in zahlreichen technischen Anwendungsfeldern.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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