Preparation method for silicon nanometer needle array having extra-high depth to width ratio

WO2021083080 Art A1 6. Mai 2021

Anmelder: NANJING UNIVERSITY 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021083080
Aktenzeichen: EP20882823
Anmeldetag: 26. Oktober 2020
Veröffentlichung: 6. Mai 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C01B33/021C23C14/02C23C14/16

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NANJING UNIVERSITY
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Nanjing University

Nanjing University ist eine chinesische Universität mit breiter naturwissenschaftlicher und medizinischer Forschung. Das Patentportfolio verteilt sich auf anorganische Chemie und Werkstoffe, Medizintechnik, Software sowie Verfahrens- und Messtechnik. Anmeldungen reichen von 2003 bis in die Gegenwart.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

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