Silicon compound, reactive material, resin composition, photosensitive resin composition, cured film, method for producing cured film, pattern cured film, and method for producing pattern cured film
WO2021085262
Art A1
6. Mai 2021
Anmelder: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021085262
- Aktenzeichen
- EP20882252
- Anmeldetag
- 21. Oktober 2020
- Veröffentlichung
- 6. Mai 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08G77/24C08L83/04C07F7/18G03F7/004G03F7/075G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Central Glass
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.
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