Radiation Source Testing

WO2021086640 Art A1 6. Mai 2021

Anmelder: CYMER, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021086640
Aktenzeichen: EP20804082
Anmeldetag: 16. Oktober 2020
Veröffentlichung: 6. Mai 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: CYMER, LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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