Amorphous Silicon-Based Films Resistant To Crystallization
WO2021086822
Art A1
6. Mai 2021
Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021086822
- Aktenzeichen
- EP20881150
- Anmeldetag
- 27. Oktober 2020
- Veröffentlichung
- 6. Mai 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/02H01L21/3213C23C16/56C23C16/24C23C16/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- APPLIED MATERIALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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Vertreten von
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