Physical vapor deposition chamber and physical vapor deposition apparatus
WO2021088658
Art A1
14. Mai 2021
Anmelder: BEIJING NAURA MICROELECTRONICS EQUIPMENT CO., LTD. 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021088658
- Aktenzeichen
- EP20885486
- Anmeldetag
- 23. Oktober 2020
- Veröffentlichung
- 14. Mai 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/35
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- BEIJING NAURA MICROELECTRONICS EQUIPMENT CO., LTD.
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Beijing NAURA Microelectronics Equipment
Beijing NAURA Microelectronics Equipment ist ein chinesischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, mit weiteren Anmeldungen in Elektronik und Prozesssteuerung. Anmeldungen reichen von 2013 bis in die Gegenwart.
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