Sputtering target, optical function film, and method for manufacturing sputtering target

WO2021090662 Art A1 14. Mai 2021

Anmelder: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021090662
Aktenzeichen: EP20884654
Anmeldetag: 16. Oktober 2020
Veröffentlichung: 14. Mai 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C04B35/58C23C14/06G06F3/041

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Materials

Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik Software & Datenverarbeitung

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