Method for manufacturing epitaxial substrate, and epitaxial substrate

WO2021090848 Art A1 14. Mai 2021

Anmelder: SUMITOMO ELECTRIC DEVICE INNOVATIONS, INC., SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021090848
Aktenzeichen: EP20884917
Anmeldetag: 4. November 2020
Veröffentlichung: 14. Mai 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: SUMITOMO ELECTRIC DEVICE INNOVATIONS, INC.
SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sumitomo Electric Industries

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Osaka, Teil der Sumitomo-Gruppe. Aktiv in Kabel- und Glasfasertechnologie, Halbleitern, Automobilkomponenten sowie Elektronik- und Werkstofftechnik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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