Pmos High-K Metal Gates

WO2021091995 Art A1 14. Mai 2021

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021091995
Aktenzeichen: EP20884007
Anmeldetag: 4. November 2020
Veröffentlichung: 14. Mai 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/78H01L29/51H01L29/49H01L29/40H01L21/28H01L21/285H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von