Tunable laser device, method to tune a laser beam, interferometer system and lithographic apparatus

WO2021094207 Art A1 20. Mai 2021

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021094207
Aktenzeichen: EP20800176
Anmeldetag: 6. November 2020
Veröffentlichung: 20. Mai 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01S5/14H01S5/0687H01S5/06H01S5/00H01S5/0625H01S5/0683H01S5/062G03F1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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