Method for manufacturing chemically amplified light-sensitive composition, premix solution for preparing chemically amplified light-sensitive composition, chemically amplified light-sensitive composition, method for manufacturing light-sensitive dry film, and method for manufacturing patterned resist film
WO2021095437
Art A1
20. Mai 2021
Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021095437
- Aktenzeichen
- EP20888493
- Anmeldetag
- 16. Oktober 2020
- Veröffentlichung
- 20. Mai 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/004G03F7/039G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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