Composition, production method for substrate, and polymer
WO2021095766
Art A1
20. Mai 2021
Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021095766
- Aktenzeichen
- EP20888187
- Anmeldetag
- 11. November 2020
- Veröffentlichung
- 20. Mai 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08F8/00C08L101/02H01L21/312
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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