Sputtering target and method for manufacturing same

WO2021100233 Art A1 27. Mai 2021

Anmelder: MITSUI MINING&SMELTING CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021100233
Aktenzeichen: EP20889694
Anmeldetag: 24. Juni 2020
Veröffentlichung: 27. Mai 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C04B37/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUI MINING&SMELTING CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsui Mining & Smelting

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Nichteisenmetallen sowie der Herstellung von Materialien für die Elektronikindustrie.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von