Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

WO2021100383 Art A1 27. Mai 2021

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021100383
Aktenzeichen: EP20890464
Anmeldetag: 19. Oktober 2020
Veröffentlichung: 27. Mai 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/24G03F1/58G03F1/84C23C14/08C23C14/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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