Photosensitive resin composition, photosensitive resin sheet, hollow structure, cured material, hollow structure production method, electronic component, and elastic wave filter

WO2021100538 Art A1 27. Mai 2021

Anmelder: TORAY INDUSTRIES, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2021100538
Aktenzeichen
EP20889385
Anmeldetag
10. November 2020
Veröffentlichung
27. Mai 2021
Rechtsraum
WO
IPC
C08F283/04C08G73/10C08F2/44G03F7/004G03F7/037H05K3/28
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
TORAY INDUSTRIES, INC.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Toray Industries

Japanischer Chemie- und Materialkonzern mit Sitz in Tokio. Toray entwickelt Kohlefasern, synthetische Fasern, Kunststoffe, Chemikalien sowie Materialien für Textil-, Automobil-, Elektronik- und Luftfahrtindustrie.

5.335 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen