Cleaning device and method for manufacturing semiconductor device

WO2021100626 Art A1 27. Mai 2021

Anmelder: MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021100626
Aktenzeichen: EP20889957
Anmeldetag: 13. November 2020
Veröffentlichung: 27. Mai 2021
Rechtsraum: WO
IPC: B08B5/00B08B5/02H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Electric

Japanisches Unternehmen, das Elektro- und Elektroniktechnik entwickelt und herstellt, darunter Automatisierung, Energie-, Klima- und Fahrzeugtechnik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

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