Lithography apparatus with improved stability

WO2021104791 Art A1 3. Juni 2021

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021104791
Aktenzeichen: EP20797122
Anmeldetag: 29. Oktober 2020
Veröffentlichung: 3. Juni 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H01L21/687

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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