Defect inspection device and method
WO2021106128
Art A1
3. Juni 2021
Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021106128
- Aktenzeichen
- EP19953988
- Anmeldetag
- 28. November 2019
- Veröffentlichung
- 3. Juni 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/29H01L21/66G01N23/2202G01N23/225
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi High-Tech Corporation
Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.
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