Method for manufacturing cylindrical sputtering target, and firing tool used in same
WO2021106258
Art A1
3. Juni 2021
Anmelder: MITSUI MINING&SMELTING CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021106258
- Aktenzeichen
- EP20893687
- Anmeldetag
- 2. Juli 2020
- Veröffentlichung
- 3. Juni 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/34C04B35/64F27D3/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- MITSUI MINING&SMELTING CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsui Mining & Smelting
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Nichteisenmetallen sowie der Herstellung von Materialien für die Elektronikindustrie.
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Vertreten von
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