Active-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern formation method, and electronic device manufacturing method

WO2021106535 Art A1 3. Juni 2021

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021106535
Aktenzeichen: EP20894017
Anmeldetag: 9. November 2020
Veröffentlichung: 3. Juni 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C07C43/13G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20C07C69/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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