Chemical solution for forming protective film, and method for cleaning wafer
WO2021106580
Art A1
3. Juni 2021
Anmelder: CENTRAL GLASS CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021106580
- Aktenzeichen
- EP20894229
- Anmeldetag
- 11. November 2020
- Veröffentlichung
- 3. Juni 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- CENTRAL GLASS CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Central Glass
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.
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