Insert well having multilayer three-dimensional basement membrane structure, and manufacturing method therefor

WO2021107629 Art A1 3. Juni 2021

Anmelder: KOREA INSTITUTE OF INDUSTRIAL TECHNOLOGY 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021107629
Aktenzeichen: EP20894490
Anmeldetag: 26. November 2020
Veröffentlichung: 3. Juni 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C12M1/32C12M3/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: KOREA INSTITUTE OF INDUSTRIAL TECHNOLOGY
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Korea Institute of Industrial Technology

Das Korea Institute of Industrial Technology (KITECH) ist eine südkoreanische staatliche Forschungseinrichtung für angewandte Industrietechnik. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Fertigungs- und Drucktechnik sowie Metallurgie und Halbleitertechnik, ergänzt durch Verfahrenstechnik. Anmeldungen sind von 2002 bis in die Gegenwart belegt.

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Fachgebiete

Pharma & Biotechnologie

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