High frequency low-loss insulating adhesive film material and preparation method therefor
WO2021108955
Art A1
10. Juni 2021
Anmelder: Shenzhen Institutes of Advanced Technology Chinese Academy of Sciences 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021108955
- Aktenzeichen
- EP19955259
- Anmeldetag
- 2. Dezember 2019
- Veröffentlichung
- 10. Juni 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C09J7/30C09J163/00C09J163/02C09J11/04C09J11/06H01L23/29
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shenzhen Institutes of Advanced Technology Chinese Academy of Sciences
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Shenzhen Institutes of Advanced Technology
Chinesisches Forschungsinstitut in Shenzhen unter der Chinesischen Akademie der Wissenschaften mit Schwerpunkten in Robotik, Biomedizintechnik und neuen Materialien.
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