Method and system for enhancing target features of a pattern imaged onto a substrate

WO2021110343 Art A1 10. Juni 2021

Anmelder: CYMER, LLC, ASML NETHERLANDS B.V. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021110343
Aktenzeichen: EP20803465
Anmeldetag: 5. November 2020
Veröffentlichung: 10. Juni 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F1/36

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: CYMER, LLC
ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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