Verfahren und Optisches System zum Laserstrahl-Modifizieren eines für den Laserstrahl Zumindest Weitgehend Transparenten Materials
WO2021110895
Art A1
10. Juni 2021
Anmelder: TRUMPF LASER- UND SYSTEMTECHNIK GMBH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021110895
- Aktenzeichen
- EP20817193
- Anmeldetag
- 4. Dezember 2020
- Veröffentlichung
- 10. Juni 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B23K26/06B23K26/0622B23K26/382B23K26/402C03B33/02B23K103/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TRUMPF LASER- UND SYSTEMTECHNIK GMBH
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Trumpf Laser- und Systemtechnik
Der Anmelder ist eine deutsche Gesellschaft des Maschinenbaukonzerns Trumpf mit Fokus auf Lasertechnik. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Fertigungs- und Drucktechnik, ergänzt durch Kunststofftechnik, Optik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.
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