Radiation-sensitive resin composition, method for forming resist pattern, polymer, and compound

WO2021111912 Art A1 10. Juni 2021

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021111912
Aktenzeichen: EP20895655
Anmeldetag: 20. November 2020
Veröffentlichung: 10. Juni 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C07C271/34C07C321/18C07D309/06C07D327/06C07D333/78C08F20/28C08F28/04G03F7/038G03F7/039G03F7/20C07D307/00C07D307/33C07C69/734C07C69/75C07C69/753C07C69/92C07C69/96

Offizieller Volltext

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Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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