Cleaning liquid for removing cerium compounds, cleaning method, and method for producing semiconductor wafer

WO2021111914 Art A1 10. Juni 2021

Anmelder: MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021111914
Aktenzeichen: EP20897487
Anmeldetag: 20. November 2020
Veröffentlichung: 10. Juni 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C11D17/08C11D7/22C11D7/26C11D7/36H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, Teil der Mitsubishi-Chemical-Gruppe. Das Unternehmen entwickelt Grund- und Spezialchemikalien, Kunststoffe, Materialien für Elektronik und Energiespeicher sowie Pharma- und Life-Science-Produkte.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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