Composition for forming underlayer film for lithography, underlayer film for lithography, resist pattern forming method, circuit pattern forming method, oligomer, and purification method

WO2021112194 Art A1 10. Juni 2021

Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021112194
Aktenzeichen: EP20895412
Anmeldetag: 3. Dezember 2020
Veröffentlichung: 10. Juni 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C08G61/00G03F7/11G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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