Techniques for determining and correcting for expected dose variation during implantation of photoresist-coated substrates

WO2021113099 Art A1 10. Juni 2021

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021113099
Aktenzeichen: EP20895536
Anmeldetag: 22. November 2020
Veröffentlichung: 10. Juni 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/317H01J37/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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